Купить chemical vapor deposition cvd coating furnace, хорошее качество chemical vapor deposition cvd coating furnace производитель

Видео

Специализированная вакуумная печь Cvd для лаборатории

Температура процесса (((°C): 700-1050

Виды покрытий: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3

Лучшая цена

MT-CVD HT-CVD Печь покрытия с высоким качеством покрытия и настраиваемым реактором

Покрывая температура: 200-1050°С

Система охлаждения: 2 комплекта высокопроизводительных водоохлаждаемых конденсатных ловушек

Лучшая цена

Видео

Медоносная керамическая печь покрытия CVD для температуры процесса 700-1050C и необязательный газовый нейтрализатор

Температура процесса (((°C): 700-1050

Прекурсоры и процессовые газы: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

Лучшая цена

Видео

Печь для нанесения покрытия СВД с колесом уплотнения на роликах с прекурсорами СО и газораспределителем второй ступени

Температура процесса (((°C): 700-1050

Прекурсоры и процессовые газы: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

Лучшая цена

Видео

Печь для нанесения покрытия на химическом осаждении паров с прекурсорами TiCL4,AICL3 и газовыми процессами

Температура процесса (((°C): 700-1050

Прекурсоры и процессовые газы: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

Лучшая цена

Видео

Печь для нанесения покрытия химического отложения паров для режущего инструмента для цементированного/волфрамового карбида

Температура процесса (((°C): 700-1050

Прекурсоры и процессовые газы: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

Лучшая цена

Видео

RDE Силиконовая карбидная покрывающая машина CVD Химическая печь отложения паров

Эффективное пространство ((мм): 1000*1000*1500

Нагревательная мощность ((KVA): 300

Лучшая цена

Печь для нанесения покрытия КВД на карбиде кремния для графитовых подшипников или резных колец

Упаковывая детали: деревянные чехлы

Время доставки: 5-6 месяцев

Лучшая цена

Видео

Усовершенствованная печь для депонирования паров CVD/CVI для покрытия TiC TiN TiCN a-AL2O3 и K-AI2O3 при температуре процесса 700-1050 °C

Температура процесса (((°C): 700-1050

Виды покрытий: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3

Лучшая цена

Печь химического отложения паров для режущих инструментов

Process temperature((℃): 700-1050

Precursors and process gases: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

Лучшая цена

Видео

Китай, производитель СВД печей, машины для покрытия карбидом кремния

Эффективное пространство ((мм): 1000*1000*1500

Нагревательная мощность ((KVA): 300

Лучшая цена

TiC/TiN/TiCN/a-Al2O3/k-Al2O3 Покрытия СВД-печь с температурным регулированием 700-1050°C

Отопительная зона: 4 шт./5 шт.

Максимальная температура:: 1100℃

Лучшая цена

Видео

1500C CVD SIC Epitaxy Growth Furnace для выращивания карбида кремния в 100010001500 мм эффективного пространства

Эффективное пространство ((мм): 1000*1000*1500

Нагревательная мощность ((KVA): 300

Лучшая цена

Видео

Настраиваемая TiC/TiN/TiCN/Al2O3 покрытие СВД печь с температурой процесса 700-1050C

Температура процесса (((°C): 700-1050

Виды покрытий: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3

Лучшая цена

chemical vapor deposition cvd coating furnace Онлайн производитель

Печь спекания ГИП(горячее изостатическое прессование)

Печь спекания под давлением газа (спекание под давлением газа)

Вакуумная печь спекания

Печь спекания MIM (металлическая литьевая форма)

Печь спекания металла

Промышленная вакуумная печь

Высокотемпературная вакуумная печь

Вакуумные промышленные печи для термообработки

Печь спекания керамики

Высоковакуумная печь

Детали печи спекания

Печь спекания карбида кремния

Печь химического осаждения из газовой фазы

Специализированная вакуумная печь Cvd для лаборатории

MT-CVD HT-CVD Печь покрытия с высоким качеством покрытия и настраиваемым реактором

Медоносная керамическая печь покрытия CVD для температуры процесса 700-1050C и необязательный газовый нейтрализатор

Печь для нанесения покрытия СВД с колесом уплотнения на роликах с прекурсорами СО и газораспределителем второй ступени

Специализированная вакуумная печь Cvd для лаборатории

MT-CVD HT-CVD Печь покрытия с высоким качеством покрытия и настраиваемым реактором

Медоносная керамическая печь покрытия CVD для температуры процесса 700-1050C и необязательный газовый нейтрализатор

Печь для нанесения покрытия СВД с колесом уплотнения на роликах с прекурсорами СО и газораспределителем второй ступени

Печь для нанесения покрытия на химическом осаждении паров с прекурсорами TiCL4,AICL3 и газовыми процессами

Печь для нанесения покрытия химического отложения паров для режущего инструмента для цементированного/волфрамового карбида

RDE Силиконовая карбидная покрывающая машина CVD Химическая печь отложения паров

Печь для нанесения покрытия КВД на карбиде кремния для графитовых подшипников или резных колец

Усовершенствованная печь для депонирования паров CVD/CVI для покрытия TiC TiN TiCN a-AL2O3 и K-AI2O3 при температуре процесса 700-1050 °C

Печь химического отложения паров для режущих инструментов

Китай, производитель СВД печей, машины для покрытия карбидом кремния

TiC/TiN/TiCN/a-Al2O3/k-Al2O3 Покрытия СВД-печь с температурным регулированием 700-1050°C

1500C CVD SIC Epitaxy Growth Furnace для выращивания карбида кремния в 100010001500 мм эффективного пространства

Настраиваемая TiC/TiN/TiCN/Al2O3 покрытие СВД печь с температурой процесса 700-1050C