Купить high temperature coating process equipment, хорошее качество high temperature coating process equipment производитель

Видео

Оборудование для высокотемпературного нанесения покрытий с прекурсорами и газовыми процессами TiCl4 AlCl3 CH3CN H2 N2 Ar CH4 CO CO2 HCl H2S

Прекурсоры и процессовые газы: TiCl4、AlCl3、CH3CN、H2、N2、Ar、CH4、CO、CO2、HCl、H2S

Подложки для покрытия: Металл, керамика, стекло и т.д.

Лучшая цена

Видео

Электрическое сопротивление нагрева CVD покрытие машины для высокотемпературного покрытия до 1000°C Китайский и ключом к руку проект

Общая мощность: Около 40/50/60/80КВт

Подложки для покрытия: Металл, керамика, стекло и т.д.

Лучшая цена

Видео

Китайский поставщик вольфрамового карбида высокотемпературная газовая печь для спекания под давлением 1-20 МПа

Упаковывая детали: Деревянные чехлы

Время доставки: 5-6 месяцев

Лучшая цена

Видео

Высокотемпературная вакуумная печь для осаждения паров с максимальным диапазоном температуры 1100 °C

Реактор: 2PCS

Максимальная температура:: 1100℃

Лучшая цена

Профессиональная высокотемпературная печь вакуума для не металла керамического/карбида Сик

Имя: Высокая температура & печь глубокого вакуума спекая

Спецификации: РДЭ-ГВЛ-5518

Лучшая цена

Видео

Усовершенствованная машина для покрытия КВД для керамической подложки Сильное покрытие сцепление Общая мощность Около 40/50/60/80KW

Подложки для покрытия: Металл, керамика, стекло и т.д.

Адгезия покрытия: Сильный

Лучшая цена

Система электрического нагрева с вакуумным покрытием толщиной покрытия 5-20um и грузовым весом 400 кг

Покрывая температура: 200-1050°С

Система охлаждения: 2 комплекта высокопроизводительных водоохлаждаемых конденсатных ловушек

Лучшая цена

MT-CVD HT-CVD Печь покрытия с высоким качеством покрытия и настраиваемым реактором

Покрывая температура: 200-1050°С

Система охлаждения: 2 комплекта высокопроизводительных водоохлаждаемых конденсатных ловушек

Лучшая цена

Видео

Высокотемпературная камера покрытия сплава Химическая машина по покрытию отложения паров для режущего инструмента карбида вольфрама

Прекурсоры и процессовые газы: TiCl4、AlCl3、CH3CN、H2、N2、Ar、CH4、CO、CO2、HCl、H2S

Размер оборудования для покрытия: Настраиваемый

Лучшая цена

Электрическое отопительное оборудование для нанесения покрытий в режиме постоянного тока для карбида титана (TiC) и нитрида титана (TiN)

Система управления: ПЛК

Электрическое питание: AC380V/50HZ

Лучшая цена

PLC химическая машина для нанесения покрытия отложения паров с двумя комплектами водоохлаждаемых конденсатных ловушек

Система охлаждения: 2 комплекта высокопроизводительных водоохлаждаемых конденсатных ловушек

Покрывая температура: 200-1050°С

Лучшая цена

5-20um Химическая машина для отложения паров с температурой покрытия 200-1050°C

Тип покрытия: CVD

Толщина покрытия: 5-20 мкм

Лучшая цена

Электрическая нагревательная поверхностная покрывающая машина с Bronkhost MFC для точного контроля потока

Электрическое питание: AC380V/50HZ

Материал покрытия: Карбид титана (TiC); Нитрид титана (олово); Титан Carbonitride (MT/HT-TiCxNy); α-Al2O3

Лучшая цена

0.1-1.0MPa Напряжение покрытия Машина покрытия CVD 200-1050°C Температура покрытия

Материал покрытия: Карбид титана (TiC); Нитрид титана (олово); Титан Carbonitride (MT/HT-TiCxNy); α-Al2O3

Тип покрытия: CVD

Лучшая цена

СВД Вакуумная покрывающая машина AC380V/50Hz Электроснабжение ±2mbar Однородность давления покрытия

Толщина покрытия: 5-20 мкм

Материал покрытия: Карбид титана (TiC); Нитрид титана (олово); Титан Carbonitride (MT/HT-TiCxNy); α-Al2O3

Лучшая цена

Видео

Печь для нанесения покрытия на химическом осаждении паров с прекурсорами TiCL4,AICL3 и газовыми процессами

Температура процесса (((°C): 700-1050

Прекурсоры и процессовые газы: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

Лучшая цена

high temperature coating process equipment Онлайн производитель

Печь спекания ГИП(горячее изостатическое прессование)

Печь спекания под давлением газа (спекание под давлением газа)

Вакуумная печь спекания

Печь спекания MIM (металлическая литьевая форма)

Печь спекания металла

Промышленная вакуумная печь

Высокотемпературная вакуумная печь

Вакуумные промышленные печи для термообработки

Печь спекания керамики

Высоковакуумная печь

Детали печи спекания

Печь спекания карбида кремния

Печь химического осаждения из газовой фазы

Оборудование для высокотемпературного нанесения покрытий с прекурсорами и газовыми процессами TiCl4 AlCl3 CH3CN H2 N2 Ar CH4 CO CO2 HCl H2S

Электрическое сопротивление нагрева CVD покрытие машины для высокотемпературного покрытия до 1000°C Китайский и ключом к руку проект

Китайский поставщик вольфрамового карбида высокотемпературная газовая печь для спекания под давлением 1-20 МПа

Высокотемпературная вакуумная печь для осаждения паров с максимальным диапазоном температуры 1100 °C

Оборудование для высокотемпературного нанесения покрытий с прекурсорами и газовыми процессами TiCl4 AlCl3 CH3CN H2 N2 Ar CH4 CO CO2 HCl H2S

Электрическое сопротивление нагрева CVD покрытие машины для высокотемпературного покрытия до 1000°C Китайский и ключом к руку проект

Китайский поставщик вольфрамового карбида высокотемпературная газовая печь для спекания под давлением 1-20 МПа

Высокотемпературная вакуумная печь для осаждения паров с максимальным диапазоном температуры 1100 °C

Профессиональная высокотемпературная печь вакуума для не металла керамического/карбида Сик

Усовершенствованная машина для покрытия КВД для керамической подложки Сильное покрытие сцепление Общая мощность Около 40/50/60/80KW

Система электрического нагрева с вакуумным покрытием толщиной покрытия 5-20um и грузовым весом 400 кг

MT-CVD HT-CVD Печь покрытия с высоким качеством покрытия и настраиваемым реактором

Высокотемпературная камера покрытия сплава Химическая машина по покрытию отложения паров для режущего инструмента карбида вольфрама

Электрическое отопительное оборудование для нанесения покрытий в режиме постоянного тока для карбида титана (TiC) и нитрида титана (TiN)

PLC химическая машина для нанесения покрытия отложения паров с двумя комплектами водоохлаждаемых конденсатных ловушек

5-20um Химическая машина для отложения паров с температурой покрытия 200-1050°C

Электрическая нагревательная поверхностная покрывающая машина с Bronkhost MFC для точного контроля потока

0.1-1.0MPa Напряжение покрытия Машина покрытия CVD 200-1050°C Температура покрытия

СВД Вакуумная покрывающая машина AC380V/50Hz Электроснабжение ±2mbar Однородность давления покрытия

Печь для нанесения покрытия на химическом осаждении паров с прекурсорами TiCL4,AICL3 и газовыми процессами