Купить high vacuum furnace, хорошее качество high vacuum furnace производитель

Печь дружественного вакуума керамики спекая для цементированного карбида

Использование: спекая печь

Гарантия: 1 год

Лучшая цена

Видео

Высокотемпературная вакуумная печь для осаждения паров с максимальным диапазоном температуры 1100 °C

Реактор: 2PCS

Максимальная температура:: 1100℃

Лучшая цена

Настраиваемая TiC/TiN/TiCN/Al2O3 покрытие СВД печь с температурой процесса 700-1050C

Температура процесса (((°C): 700-1050

Виды покрытий: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3

Лучшая цена

Печь для нанесения покрытия химического отложения паров для режущего инструмента для цементированного/волфрамового карбида

Температура процесса (((°C): 700-1050

Прекурсоры и процессовые газы: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

Лучшая цена

Высокий автоматический период охлаждения в печи 300-420мин/480мин спекать МИМ

Имя: Печь для спекания MIM

Цвет: Белый

Лучшая цена

Видео

6MPA Деваксирование Давление Синтерная печь для керамиков Не керамики Прицисон Керамический полупроводник Нитрид кремния

Температура: 1550°C-2200°C

Максимальная нагрузка: 500 кг/1200 кг/1500 кг/2500 кг

Лучшая цена

Печь для нанесения покрытия КВД на карбиде кремния для графитовых подшипников или резных колец

Упаковывая детали: деревянные чехлы

Время доставки: 5-6 месяцев

Лучшая цена

MT-CVD HT-CVD Печь покрытия с высоким качеством покрытия и настраиваемым реактором

Покрывая температура: 200-1050°С

Система охлаждения: 2 комплекта высокопроизводительных водоохлаждаемых конденсатных ловушек

Лучшая цена

Видео

1500C CVD SIC Epitaxy Growth Furnace для выращивания карбида кремния в 100010001500 мм эффективного пространства

Эффективное пространство ((мм): 1000*1000*1500

Нагревательная мощность ((KVA): 300

Лучшая цена

Усовершенствованная печь для депонирования паров CVD/CVI для покрытия TiC TiN TiCN a-AL2O3 и K-AI2O3 при температуре процесса 700-1050 °C

Температура процесса (((°C): 700-1050

Виды покрытий: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3

Лучшая цена

Печь для нанесения покрытия на химическом осаждении паров с прекурсорами TiCL4,AICL3 и газовыми процессами

Температура процесса (((°C): 700-1050

Прекурсоры и процессовые газы: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

Лучшая цена

Медоносная керамическая печь покрытия CVD для температуры процесса 700-1050C и необязательный газовый нейтрализатор

Температура процесса (((°C): 700-1050

Прекурсоры и процессовые газы: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

Лучшая цена

Высокотемпературная промышленная очистная печь для графитовых материалов

Максимальная рабочая температура: 2400℃

Однородность температуры: ≤±10℃

Лучшая цена

Настраиваемая химическая алюминирующая печь на 900-1050C с кодификацией Hf Zr и Si

Temp.of deposition((℃): 900-1050

Process pressure(mbar): 100-300

Лучшая цена

Молибден сделал печью металла спекая годный к употреблению космос 4004001500/5005001800мм

Имя: Печь металла спекая

Годный к употреблению космос (mm): 400 × × 400 1500/500 × 1800 × 500

Лучшая цена

Особенная печь ХИП синтера для продуктов цементированного карбида, керамических и нержавеющей стали

Цементированный карбид: Режущий инструмент, минируя инструменты, части носки, материал прессформы

керамический: Промышленная керамика, точность керамическая, нитрид кремния керамический, глинозем керамический, Зи

Лучшая цена

high vacuum furnace Онлайн производитель

Печь спекания ГИП(горячее изостатическое прессование)

Печь спекания под давлением газа (спекание под давлением газа)

Вакуумная печь спекания

Печь спекания MIM (металлическая литьевая форма)

Печь спекания металла

Промышленная вакуумная печь

Высокотемпературная вакуумная печь

Вакуумные промышленные печи для термообработки

Печь спекания керамики

Высоковакуумная печь

Детали печи спекания

Печь спекания карбида кремния

Печь химического осаждения из газовой фазы

Умно управляемая промышленная печь вакуума с насосом предварительной откачки/корнями печатает насос

Печи вакуума охлаждая периода 60-480 ПА 0,8/1/1,5 вакуума минимальной промышленной весьма

Печь отжига вакуума нитрида кремния, печь вакуума твердого сплава высокотемпературная

Печь ориентированной на заказчика нержавеющей стали спекая/горизонтальная печь вакуума

Печь дружественного вакуума керамики спекая для цементированного карбида

Высокотемпературная вакуумная печь для осаждения паров с максимальным диапазоном температуры 1100 °C

Настраиваемая TiC/TiN/TiCN/Al2O3 покрытие СВД печь с температурой процесса 700-1050C

Печь для нанесения покрытия химического отложения паров для режущего инструмента для цементированного/волфрамового карбида

Высокий автоматический период охлаждения в печи 300-420мин/480мин спекать МИМ

6MPA Деваксирование Давление Синтерная печь для керамиков Не керамики Прицисон Керамический полупроводник Нитрид кремния

Печь для нанесения покрытия КВД на карбиде кремния для графитовых подшипников или резных колец

MT-CVD HT-CVD Печь покрытия с высоким качеством покрытия и настраиваемым реактором

1500C CVD SIC Epitaxy Growth Furnace для выращивания карбида кремния в 100010001500 мм эффективного пространства

Усовершенствованная печь для депонирования паров CVD/CVI для покрытия TiC TiN TiCN a-AL2O3 и K-AI2O3 при температуре процесса 700-1050 °C

Печь для нанесения покрытия на химическом осаждении паров с прекурсорами TiCL4,AICL3 и газовыми процессами

Медоносная керамическая печь покрытия CVD для температуры процесса 700-1050C и необязательный газовый нейтрализатор

Высокотемпературная промышленная очистная печь для графитовых материалов

Настраиваемая химическая алюминирующая печь на 900-1050C с кодификацией Hf Zr и Si

Молибден сделал печью металла спекая годный к употреблению космос 4004001500/5005001800мм

Особенная печь ХИП синтера для продуктов цементированного карбида, керамических и нержавеющей стали